目前有相當多的方法可以用來(lái)評估分批式注入機的雜質(zhì)顆粒水平。在我們的案例中，通過(guò)每周三次用KLA 的SP1機臺對控片的雜質(zhì)顆粒增加進(jìn)行檢測，該控片用來(lái)測量不同摻雜離子的表面電阻。同時(shí)，在氬氣氛中進(jìn)行離子注入的17片整批晶圓也以相同的頻率每隔一天進(jìn)行監控。使用氬氣氛的好處包括可以減少不同注入離子間的交*污染和降低氣體使用的成本。這種雙重監控方案允許我們獲得多重注入源的變化情況，包括不同天之間，不同種類(lèi)的離子之間以及不同片之間的注入波動(dòng)情況。這樣的監控結果允許我們對大部分（即便不是全部）的標準工藝過(guò)程中涉及到相關(guān)因素進(jìn)行詳細的分析。

　　對分批式注入機中多種離子交替作用引起的失效進(jìn)行的分析是困難的。一種辦法是使用“分離并鑒別”的方法，先認定在實(shí)際注入過(guò)程或晶圓轉移過(guò)程中是否有雜質(zhì)顆粒進(jìn)入。在異常處理（troubleshooting）的初始階段需要先建立以無(wú)離子束注入時(shí)的情況作為基準。對于無(wú)離子束失效的情況，下一步是檢測晶圓傳輸裝置或者將該系統中的部件分離出來(lái)，如機械手、對準器、升降機等，一直到雜質(zhì)顆粒源被發(fā)現為止。另外，將雜質(zhì)顆粒在晶圓上的分布圖與每片晶圓在傳輸過(guò)程傳輸部件的接觸點(diǎn)的位置進(jìn)行比較。通過(guò)大量有重復性的失效可以得到晶圓的失效分布圖或者得到與根本原因（rootcause）相關(guān)的“信息”。

　　邊緣圖形失效
　　在低能量分批式注入機（200mm）觀(guān)察到的一個(gè)晶圓圖，如圖1所示。為了強調這種標記效應，我們將不同次失效的圖形按照同樣的邊緣圖形對齊合成為一個(gè)綜合的失效分布圖。這個(gè)綜合分布圖包含68片晶圓的情況，其中每個(gè)批次共注入17片晶圓。在所有單個(gè)晶圓中，這種邊緣圖形的標記效應都是很不明顯的，就像在圖1的矩形條圖表中顯示的那樣。這種圖形一般從每個(gè)批次第4片晶圓上開(kāi)始出現，逐漸地增長(cháng)到第17片晶圓，呈現了zui多數目的雜質(zhì)顆粒。對于那些只檢查一片晶圓來(lái)決定雜質(zhì)顆粒情況的那些晶圓廠(chǎng)（例如每個(gè)批次的第1片）可能不會(huì )發(fā)現這類(lèi)問(wèn)題的存在。